99반도체 제조를 위한 고순도 PSA 산소 발전기

PSA 산소 발전기(압력 스윙 흡수 산소 생성기) 는 반도체 제조 산업의 핵심 청정 장비입니다. 고 정밀 압력 스윙 흡수 (PSA) 기술을 기반으로,이중층 분자 시트 (평범 분자 시트 + 고순도 분자 시트) 를 통해 심층 정화를 달성하여 99% 이상의 농도의 고순도 산소를 생산합니다.0.5%

안정적인 순수성, 높은 청결성, 안정적인 작동, 그리고 오염물질 배출이반도체 제조 과정에서 산화 및 얇은 필름 퇴적과 같은 공정에서 산소 순수성과 청결성에 대한 엄격한 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다.. 최고 수준의 구성으로PSA 산소 공장 순수성, 이 장비에서 생산되는 산소 내의 불순물 (산소, 수분, 이산화탄소 등) 은 모두 ppm 수준 이하로 통제됩니다.불충분한 산소 순수성으로 인한 칩 생산량 감소를 피합니다.그것은 반도체 제조에 필수적인 핵심 산소 공급 장비입니다.

반도체 제조는 정밀 제조의 정점을 나타냅니다. 칩 프로세스는 나노미터 규모 (5nm, 3nm) 에 진입했습니다.성능 저하산소는 주로 산화 (SiO2 단열층을 형성) 및 반도체 제조의 화학 증기 퇴적 (CVD) 과 같은 핵심 프로세스에서 사용됩니다.산소 순수성은 단열층 두께의 균일성에 직접적으로 영향을 미칩니다., 필름 접착, 칩 전기 성능.

일반 산업용 산소 (93% 순수) 는 질소와 습기 같은 불순물을 포함하고 있으며, 이는 칩 표면에 결함을 일으킬 수 있으며, 생산량이 10-20% 감소합니다.5% 고 순수 산소는 훼손 함량을 ppm 수준 이하로 제어 할 수 있습니다., 효율적으로 결함 형성을 방지하고 칩 성능이 90% 이상 안정적으로 유지되도록합니다.PSA 산소 발전기질소, 습기 및 이산화탄소와 같은 불순물을 공기에서 깊이 제거 할 수 있습니다.PSA 산소 공장 순수성제어 정밀도는 전통적인 산소 생산 장비보다 훨씬 높으며 반도체 제조의 공정 요구 사항을 완전히 충족시킵니다.

또한 반도체 제조업은 산소 청결성에 대한 매우 높은 요구 사항이 있습니다. 출력 가스는 100 클래스 청정실 분류를 충족해야합니다 (100 입자 ≥ 0.공기 3피트당 5μm).PSA 산소 발전기고효율의 가스 필터링 시스템이 장착되어 있어 산소의 작은 입자를 필터링하여 칩 표면에 입자 오염을 방지하고 칩 품질을 더욱 보장합니다.

구매할 때PSA 산소 발전기, 반도체 기업은 네 가지 핵심 원칙을 준수해야합니다: "자격 순수성, 청정실 호환성, 안정성 및 신뢰성 및 공급자의 완전한 자격".

• 순수성 측면에서, 반도체 공정 요구 사항을 충족하는 산소 순수성 ≥99.5% 및 불순물 함량을 가진 장비를 선택하는 것이 필수적입니다.그리고 공급자로부터 제3자 시험 보고서를 제공하도록 요구합니다., ITS)
• 청정실 호환성 측면에서, 장비의 출력 가스 청결성이 ≥ 클래스 100이고 장비 인하가 청정실 설치 요구 사항을 충족하는지 확인해야합니다.
• 안정성 및 신뢰성 측면에서는 연간 8000시간 이상 연속 작동시간과 3년 이상 핵심 부품에 대한 보증 기간을 가진 제품에 우선 순위를 부여해야 합니다.
• 공급자의 자격은 매우 중요합니다.PSA 기반 산소 공장생산 자격, ISO9001 품질 관리 시스템 인증 및 관련 반도체 산업 인증 (SEMI 인증과 같이),그리고 반도체 산업에서 성공적인 사례를 제공하도록 요구합니다.

판매 후 서비스는 반도체 산업의 높은 요구 사항을 충족해야합니다. 공급업체는 24/7 기술 지원, 정기적인 현장 유지 보수,그리고 장비의 장기적인 안정적인 운영을 보장하기 위해 빠른 예비 부품 공급.

99.5%의 높은 순수성으로,PSA 산소 발전기반도체 제조에서 깨끗한 산소 공급의 기준이 되었습니다.그리고 안정적인 작동 성능은 반도체 프로세스에 대한 신뢰할 수있는 산소 공급 지원을 제공할 수 있습니다., 그것은 칩 제조 기업에 대한 주요 장비로 생산량을 향상시키고 비용을 줄입니다.