Korean
고객 배경
이 기업은 반도체용 포토레지스트 및 전자 특수 가스 생산을 전문으로 합니다. 공장의 오존 산화 정화 공정은(는) 고순도 산소(≥99.2%)의 안정적인 공급을 필요로 하며, 장비는 한국의 산업 가스 안전 기준 및 반도체 산업의 무진 생산 요구 사항을 준수해야 합니다.
핵심 문제점
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기존 액체 산소 공급 방식은 운송 손실(약 5%)이 발생하며, 국제 액체 산소 가격 변동에 큰 영향을 받아 공급 안정성이 부족합니다.
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반도체 재료 생산은 산소 청결도에 대한 요구 사항이 매우 높으며, 입자 함량 ≤ 0.1μm를 제어하고 오염을 제거해야 합니다.
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공장 공간이 제한적이므로 한국의 엄격한 환경 배출 요구 사항을 충족하면서 컴팩트한 장비 설계를 요구합니다.
솔루션
GNEE는 800Nm³/h 고순도 VPSA 산소 시스템 1세트를 제공했으며, "무유 공정 + 다단계 정화"의 맞춤형 솔루션을 채택했습니다:
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수입 무유 압축기를 선택하고, 3단계 필터(정밀 여과 + 활성탄 흡착 + 고효율 오일 제거)를 결합하여 산소의 입자 함량이 0.05μm 미만이고 오일 함량이 ≤ 0.001mg/m³임을 보장합니다.
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고효율 리튬 기반 분자체와 이중 타워 흡착 구조를 채택하고, 흡착-탈착 사이클을 최적화하여 산소 순도를 99.3%-99.5%로 안정적으로 유지합니다.
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장비는 모듈형 통합 설계를 채택했으며, 설치 면적이 기존 장비보다 40% 작아 공장의 공간 요구 사항을 충족합니다.
적용 효과
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안정적인 공급: "주문형 생산 및 즉시 사용"의 현장 산소 생산 방식이 실현되어 액체 산소 공급을 완전히 대체합니다. 연간 운송 손실 비용이 30만 달러 이상 절감되고 산소 순도 변동폭은 ≤ 0.1%입니다.
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공정 개선: 고순도 산소는 포토레지스트 정화 효율을 15% 향상시키고 제품 수율을 96.2%에서 98.5%로 높여 삼성전자의 공급망 인증을 획득했습니다.
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규정 준수 및 에너지 절약: 장비는 관련 인증을 통과했으며 폐가스 배출량이 한국의 환경 보호 기준보다 낮습니다. 단위 산소 전력 소비량은 0.35kW·h/m³로, 한국 현지 장비보다 8% 낮습니다.
VPSA 산소 발생기 외에도 PSA 산소 발생기, 저장 탱크, 열교환기 및 기타 제품을 생산합니다. VPSA 산소 시스템 또는 기타 제품에 관심이 있으시면 언제든지 info@gneeheatex.com으로 이메일을 보내주십시오. 기꺼이 도와드리겠습니다.
